適合日常 QA/QC、固體粉末、液體、薄膜與快速多樣品篩選，是多數實驗室最常優先評估的 ATR 類型。
DiaMax ATR 採用高光通量鑽石晶體與精密壓持器，能協助粉末、硬質固體與具磨耗性的樣品取得穩定接觸，適合例行分析與研究室共用平台。
| 主要用途 | Diamond ATR 常規高通量平台 |
| 採樣面積 | 1.5 mm diameter |
| 壓持結構 | 內建防過載滑動離合器 pressure applicator |
| 延伸能力 | 可選配固體樣品加熱套件，最高 200°C |
MIRacle ATR 可依固體、液體、聚合物、膏狀與膠體樣品需求切換 Diamond/ZnSe、Diamond/KRS-5、ZnSe、Ge、Si 等晶體配置，並可延伸溫控、流通與密封附件。
| 反射形式 | 1.8 mm 單次反射 / 6.0 mm 多次反射 |
| 入射角 | 45° |
| 晶體選擇 | Diamond/ZnSe, Diamond/KRS-5, ZnSe, Ge, Si |
| 常見延伸 | 壓持器、溫控、流通與密封樣品模組 |
AccessATR 適合預算明確、需要快速導入的實驗室。標準滑板安裝與免光路校正設計，讓液體、糊狀物、粉末與固體樣品都能快速上機。
| 入射角 | 固定 45° |
| 晶體選項 | ZnSe 或 Ge |
| 硬體設計 | 內建液體槽與固體壓持器 |
| 適用對象 | 教學實驗室、常規 QA/QC、基礎 FTIR 取樣 |
Quest ATR 採用磁吸式 Puck 晶體盤設計，讓使用者能快速切換常用晶體材質，適合多樣品常規量測與日常品管流程。
| 硬體特色 | Puck 磁吸快拆設計 |
| 晶體選項 | Diamond / ZnSe / Ge |
| 適用方向 | 高通量日常品管、多樣化樣品快速分析 |
用於高溫、高壓、腐蝕性樣品、in-situ 監測與相變研究等嚴苛量測條件。
ReactorMAX ATR 專為嚴苛化學反應條件設計，提供可控溫、可加壓與流通反應配置，適合需要即時監測反應進程的研究應用。
| 溫度範圍 | 常溫至 215°C |
| 壓力能力 | 最高 55 bar / 800 psi |
| 入射角 | 45° / 60° 或 35° - 65° 可變角度 |
| 適合方向 | 催化、聚合、流體動力學與 in-situ 監測 |
IRIS ATR 適合需要高壓接觸與寬光譜量測範圍的進階應用，可用於礦物、粉末、硬質材料與高壓環境下的固態樣品分析。
| 壓力能力 | 高達 10,000 psi |
| 光譜重點 | 高壓與廣光譜範圍 |
| 適合方向 | 高硬度粉末、礦物分析與極端壓力研究 |
GladiATR Heated 以耐用的鑽石晶體與全不鏽鋼結構對應高溫與腐蝕性樣品需求，適合常規 ATR 無法承受的嚴苛量測條件。
| 最高溫度 | 300°C |
| 結構設計 | 全不鏽鋼無 O-ring 設計 |
| 適用方向 | 高溫樣品、腐蝕性樣品與嚴苛環境 ATR 分析 |
Golden Gate ATR 適合需要寬廣溫控範圍的研究型應用，可用於相變、低溫條件、高溫反應與 in-situ FTIR 觀察。
| 溫度範圍 | -150°C to 300°C |
| 晶體配置 | Diamond ATR |
| 適用方向 | 極端溫控、相變研究、in-situ 量測 |
針對薄膜、晶圓、單分子層、電化學界面、微量液體與 UV/Vis 光化學 in-situ 監測等特殊 ATR 應用。
VariGATR 使用高入射角與 Ge 半球形晶體強化薄膜與表面層訊號，適合 Si 晶圓、金屬塗層、SAMs 單分子層與表面化學研究。
| 入射角 | 60° 至 65° 可變角度 |
| 核心晶體 | Ge 半球形晶體 |
| 樣品尺寸 | 最大可容納 8-inch 晶圓或大型基板 |
| 適合方向 | 薄膜、金屬塗層、晶圓表面與單分子層分析 |
FastIR 適合薄膜、塗層與表面樣品的 FTIR 分析。若樣品涉及偏振控制、角度條件或特定基板，需與實際膜厚、基板材質、目標波段與主機樣品室空間一起確認。
| 品牌 | Harrick Scientific |
| 應用方向 | 薄膜、塗層、表面快速分析 |
| 配置確認 | 基板、膜厚、偏振條件與 FTIR 樣品室空間 |
WafIR 用於晶圓、半導體基板與薄膜表面分析，適合需要穩定放置 wafer 或平面基板的量測條件。需確認 wafer 尺寸、膜層位置、基板材質與 FTIR 主機樣品室空間。
| 品牌 | Harrick Scientific |
| 應用方向 | 晶圓、半導體基板、單面鍍膜與表面污染分析 |
| 配置確認 | wafer 尺寸、膜層位置、基板材質與主機相容性 |
JackFish 用於電化學界面與 ATR-SEIRAS 相關研究。此類配置需同時確認電化學 cell、工作電極、電解液、ATR 晶體材質與既有 FTIR 平台光路條件。
| 品牌 | PIKE Technologies |
| 應用方向 | spectroelectrochemistry、電化學界面與 ATR-SEIRAS |
| 配置確認 | 電極、溶液、晶體、角度與既有反射 / ATR 平台 |
ConcentratIR2 專為微量液體與高靈敏度分析設計，可用極少樣品量取得多重反射訊號，適合稀有溶劑、生化萃取物與微量液體研究。
| 取樣量需求 | 10 uL |
| 反射次數 | Si 11 次 / Extended Si 23 次 / Diamond 10 次 |
| 溫度範圍 | 常溫，或可選配加熱至 200°C |
| 適用方向 | 微量液體、生化檢測與高靈敏度分析 |
GladiATR illuminate 適合 UV 固化、光起始聚合與光化學反應研究，能在樣品照光過程同步追蹤紅外光譜變化。
| 光源導入 | 底部光導管導入 UV/Vis |
| 關鍵應用 | 光化學 in-situ 監測、UV 固化、光起始聚合 |
| 樣品方向 | 光敏樹脂、塗層、薄膜與光反應材料 |
部分變角反射平台可透過 ATR crystal option 支援 ATR 量測；若需求涉及薄膜、鍍層、偏振或入射角條件，可一併評估。
VeeMAX III 的核心定位是 variable angle specular reflectance。搭配 ATR crystal option 後，可作為變角 ATR 平台評估薄膜、塗層與表面層訊號。
| 主光路 | Variable angle specular / external reflection |
| ATR 關聯 | 可搭配 ATR crystal option，作變角 ATR 與薄膜深度分析 |
| 選擇重點 | 需依入射角、偏振、晶體模組與 FTIR 主機樣品室空間確認配置 |
