自動化
入射角選擇
支援 25° 至 65° 自動化角度選擇,可依樣品特性與反應條件調整穿透深度與訊號表現;若以有效入射角定義,主要工作範圍則為 35° 至 65°。
支援 25° 至 65° 自動化角度選擇,可依樣品特性與反應條件調整穿透深度與訊號表現;若以有效入射角定義,主要工作範圍則為 35° 至 65°。
多次反射 ATR 設計可提升靈敏度,反射次數會隨入射角設定而變化,特別適合濃度變化追蹤與反應過程中微小差異的觀察。
採用 Hastelloy C276 哈氏合金反應槽,標準配置搭配 AMTIR 晶體,具備優異耐蝕性,可對應 pH 1-9 範圍內的多數反應條件。
可搭配 Stirrer 使反應體系更均勻,適合需要持續混合與穩定傳質的反應監測應用。
完整整合至 PIKE TempPRO 軟體,可自動化執行角度、溫度與量測流程,提升實驗重現性。
ReactorMAX 的核心優勢在於可自動化調整入射角,讓穿透深度不再是固定條件。對於不同濃度、不同吸收強度或不同反應階段的樣品,可透過角度優化取得更合適的量測條件;選單式入射角範圍為 25° 至 65°,有效入射角主要工作範圍為 35° 至 65°。
Hastelloy C276 反應槽可承受嚴苛化學條件,並搭配 Kalrez O-rings 提供穩定密封性能。對需要處理高溫、加壓與腐蝕性介質的應用而言,能大幅提升系統可用性與操作安全性。
3 至 12 次多次反射設計可提升實驗靈敏度,且反射次數會隨入射角設定而變化,使系統更適合化學反應過程中的濃度變化與反應中間體觀察,對於研究導向應用特別有價值。
PIKE TempPRO 可整合角度、溫度、攪拌與量測流程設定,讓使用者以預設方法執行複雜實驗流程,降低手動操作誤差並提高資料一致性。
| 最大壓力 | 55 bar |
| 最大溫度 | 215°C |
| 光譜範圍 | 4000 - 800 cm-1 |
| 穿透深度 | 0.5 - 10 µm(依晶體與角度而定) |
| 入射角範圍 | 25° 至 65° selectable;35° 至 65° effective angle of incidence |
| 反射次數 | 3 到 12 次多次反射(依入射角設定而定) |
| 標準晶體 | AMTIR |
| 耐受範圍 | pH 1-9 |
| 反應槽材質 | Hastelloy C276 |
| 密封件 | Kalrez O-rings |