高通量鑽石晶體
採用高性能單反射 diamond ATR crystal，適合高硬度樣品、粗糙顆粒與具磨耗性的樣品型態。
Core Features
產品特色
Slip-clutch 壓持保護
內建 slip-clutch pressure applicator，可在建立良好接觸的同時避免過度施壓，提升晶體保護與操作一致性。
PermaPurge™ 快速換樣設計
採用 Harrick 的 PermaPurge™ 設計，可在不打斷 purge 條件下快速完成樣品更換，減少等待時間並提升日常分析效率。
可延伸加熱與流通
可規劃加熱固體樣品或流通液體配置，最高可延伸至 200 °C，適合 process monitoring 與加熱條件實驗。
DiaMax ATR 的定位
DiaMax ATR 適合需要高耐用性、穩定接觸控制與條件延伸能力的 ATR 分析流程，常見於例行品管、材料開發與高要求表面量測等情境。
- 1.5 mm 採樣面積有助於局部區域量測與接觸重現性控制。
- 可依樣品條件評估加熱、流通、force sensor 與 FIR diamond sampling plate 等延伸配置。
- 適合需要較高機械耐受度與穩定壓持條件的日常 ATR 分析流程。
Application Images
應用範例圖譜
Sand 樣品
Sand 樣品的 ATR 光譜可作為 DiaMax ATR 應用於硬質顆粒與高磨耗性樣品分析的代表性示例，適合用來說明其在無機顆粒與粗糙樣品上的量測能力。
Brown Paper 與 Blue Print
黑線為 brown paper，藍線為 blue print on brown paper，可清楚呈現紙張基材與表面印刷墨層之間的光譜差異，適合應用於印刷層、塗層與表面處理分析。
Blue Ink
Blue ink 的 ATR 光譜可作為 DiaMax ATR 應用於表面墨層、塗佈層與局部污染物分析的代表性示例，適合說明其對微量表面殘留與局部成分差異的辨識能力。
操作重點
若樣品表面不平整、顆粒較粗或需頻繁換樣，建議於操作時優先確認接觸區清潔度、施壓一致性與樣品定位方式，以維持光譜重現性。
接觸控制： 以 slip-clutch 建立一致施壓，避免過度壓迫樣品或晶體。
樣品定位： 針對局部區域量測，建議先確認 1.5 mm 採樣位置與接觸面狀態。
清潔維護： 面對粉末、塗層或腐蝕性液體後，建議立即完成晶體與 holder 清潔。
適用範圍
無機顆粒與硬質樣品： 礦物、砂粒、硬質表面與不易壓合樣品。
塗層與表面殘留： 紙材、墨層、黏著劑、塗佈層與局部表面成分分析。
條件延伸需求： 若需加熱、流通或力量監測，可於選型階段同步規劃對應模組。
Technical Specs
技術規格
主要規格
| ATR crystal | High throughput diamond ATR crystal |
| 採樣面積 | 1.5 mm diameter |
| 光譜範圍 | Mid-IR；可選配 FIR diamond |
| 壓持機構 | Built-in slip-clutch pressure applicator |
| 晶體支撐材質 | Chemically resistant stainless steel holder |
| 適用樣品 | Hard solids、abrasive powders、corrosive liquids |
| 加熱延伸 | 選配加熱固體/液體模組，最高可達 200 °C |
| 額外選配 | Flow cells、force sensor、FIR monolithic diamond sampling plate |
DiaMax ATR 為 high throughput diamond ATR 平台。若規劃加熱或流通配置，建議同步確認樣品型態、接頭形式與實際溫控需求。
選型提醒
如果樣品很硬： DiaMax ATR 通常比一般通用型 ATR 更適合高壓接觸情境。
如果樣品具磨耗性： 鑽石晶體與 slip-clutch 可提供更高耐用度與更安全的日常操作條件。
如果要加熱： 可評估原廠加熱固體或流通液體配置，最高可延伸至 200 °C。
如果重視重現性： 可再討論 force sensor 與相關配件，協助建立一致的加壓條件。