雙光束設計(Double Beam)
光源經雙全像光柵單色器選光,再由四分區光束切換器(Chopper)依序取得樣品光路(Sample)與參考光路(Reference)訊號;兩者進行比值比較,可補償光源強度波動,提升量測穩定性與可重現性。
光源經雙全像光柵單色器選光,再由四分區光束切換器(Chopper)依序取得樣品光路(Sample)與參考光路(Reference)訊號;兩者進行比值比較,可補償光源強度波動,提升量測穩定性與可重現性。
寬波段光經兩級全像光柵單色器進行兩次波長選擇,逐步排除非目標光;更低的雜散光可支援高吸光度與低透射率樣品量測。
光譜掃描、光譜比較與資料處理。
於指定波長進行量測與計算,建立單波長或多波長分析方法。
利用指定波長或完整光譜建立校正關係,進行樣品定量分析。
記錄訊號隨時間的變化,進行反應速率與動力學分析。
搭配偏振附件進行偏振光譜量測,用於具方向性與偏振特性的光學材料。

進行總穿透、總反射與散射材料量測,適合玻璃、鍍膜與進階光學材料。

提供大型、特殊形狀或非標準樣品的彈性光路與量測配置。

量測接近法向至斜入射角度下的穿透與相對鏡面反射,用於玻璃、鍍膜與光學材料的角度相關分析。

用於高反射率平面材料的絕對反射量測與參考反射鏡校正,並可分別進行 P、S 偏振量測。

用於反射標準、雷射反射鏡、太陽光學反射材料與分光元件的絕對反射量測。
| 項目 | LAMBDA 850+ |
|---|---|
| 光學系統 | Double Beam |
| 單色器 | Double Monochromator |
| 波長範圍 | 175–900 nm |
| 偵測器 | PMT |
| 光譜解析度 | ≤0.05 nm |
| 吸光度量測範圍 | 最高 8 A |
| 分析軟體 | UV WinLab |
高 Optical Density、低透射率樣品與光學材料分析。
光學濾光片、雷射防護鏡片與高吸光度光學元件分析。
薄膜、抗反射鍍膜與其他光學鍍層的透射及反射分析。
玻璃、建築玻璃與相關材料的總透射、總反射及光學性能分析。
顯示器、光電元件與相關材料的透射、反射及光譜特性分析。
太陽能與能源材料的 UV/Vis 光學性能分析。