
雙光束設計(Double Beam)
光源經雙全像光柵單色器選光,再由四分區光束切換器(Chopper)依序取得樣品光路(Sample)與參考光路(Reference)訊號;兩者進行比值比較,可補償光源強度波動,提升量測穩定性與可重現性。

光源經雙全像光柵單色器選光,再由四分區光束切換器(Chopper)依序取得樣品光路(Sample)與參考光路(Reference)訊號;兩者進行比值比較,可補償光源強度波動,提升量測穩定性與可重現性。

寬波段光經兩級全像光柵單色器進行兩次波長選擇,逐步排除非目標光;更低的雜散光可支援高吸光度與低透射率樣品量測。
原理示意,非 LAMBDA 1050+ 實際內部光路配置。
光電倍增管(PMT)+硫化鉛(PbS)
光電倍增管(PMT)+寬波段砷化銦鎵(InGaAs)+硫化鉛(PbS)
光電倍增管(PMT)+窄波段砷化銦鎵(InGaAs)+硫化鉛(PbS)
光譜掃描、光譜比較與資料處理。
於指定波長進行量測與計算,建立單波長或多波長分析方法。
利用指定波長或完整光譜建立校正關係,進行樣品定量分析。
記錄訊號隨時間的變化,進行反應速率與動力學分析。
搭配偏振附件進行偏振光譜量測,用於具方向性與偏振特性的光學材料。

提供大型、特殊形狀或非標準光學元件的彈性光路與量測配置。

量測法向至斜入射角度下的穿透與相對鏡面反射,用於玻璃、鍍膜與光學材料的角度相關分析。

用於高反射率平面材料的絕對反射量測與參考反射鏡校正,並可分別進行 P、S 偏振量測。

用於反射標準、雷射反射鏡、太陽光學反射材料與分光元件的絕對反射量測。
| 項目 | LAMBDA 1050+ |
|---|---|
| 光學系統 | 雙光束(Double Beam) |
| 單色器 | 雙單色器(Double Monochromator) |
| 波長範圍 | 175–3300 nm |
| 主機偵測器 | 2D:光電倍增管(PMT)+硫化鉛(PbS);3D:光電倍增管(PMT)+砷化銦鎵(InGaAs)+硫化鉛(PbS) |
| 取樣空間 | 雙大型取樣區,可依量測需求配置原廠附件 |
| 分析軟體 | UV WinLab |
建築玻璃、汽車玻璃與相關材料的穿透、反射及太陽光學性能分析。
薄膜、抗反射鍍膜、濾光片、分光元件與鏡片的光譜特性分析。
太陽能電池、封裝材料與能源材料的紫外、可見光及近紅外分析。
顯示材料、紅外感測元件與半導體材料的穿透及反射分析。
聚合物、陶瓷、紙材與技術紡織品的總穿透、總反射與漫反射量測。
高光學密度、低透射率樣品與光學防護材料的光譜量測。