Raman 高溫 / 高真空反應附件Raman Reaction Accessories

HVC-MRA-5 Reaction Chamber

HVC-MRA-5 反應腔可用於需要高溫、真空或受控氣氛的 Raman 反應研究，常見於非均相催化、光化學反應、氣固交互作用與氧化還原機制等條件評估。

工作溫度	真空環境下最高可達 910°C
壓力 / 真空	High vacuum 至 25.8 ktorr
適用系統	標準 Raman microscope 或光譜儀
核心應用	非均相催化 / 氣固交互作用 / 氧化還原機制

ATK-024-3 Temperature Controller

數位溫控器可支援多段 Ramp / Soak 程序設定，適合需要溫度程序、資料紀錄與較穩定加熱條件的 in-situ Raman 實驗。

溫度設定範圍	-200°C 至 1250°C (適用 K-type 熱電偶)
程式編輯能力	支援高達 40 段 Ramp / Soak 程序設定
數位通訊	RS-485 連接埠 / 可選配 USB 轉接器
進階特點	Watlow EZ-ZONE 雙通道控制 / 24V 低電壓輸出