MIRacle ATR 可依樣品型態、折射率、濃度與溫控條件配置 single、3 或 9 reflection crystal plates，適用於固體、液體、高分子、膏狀與膠體樣品分析。
MIRacle ATR 採可換晶體板與模組化夾具架構，可在同一平台配置 single、3 / 9 reflection crystal plates、不同晶體材質、壓持夾具、溫控、流通與密封附件。
| 硬質固體、粉末與聚合物 | 可搭配 single reflection plate 與 high-pressure clamp，建立穩定的樣品接觸條件；需要施力讀值時可加選 digital force adapter。 |
| 液體、膏狀與膠體樣品 | 可使用 flat 或 trough 形式的 3 / 9 reflection plates，並依樣品是否揮發或需要導入流體，搭配 retainer、volatiles cover 或 flow-through attachment。 |
| 高折射率或碳黑填充樣品 | 可選 Ge crystal 降低穿透深度並維持全反射條件，用於黑色橡膠、碳黑填充材料或其他強吸收樣品。 |
| 溫控、流通與密封條件 | 可延伸 heated plate、Peltier plate、liquid jacketed plate、sealed chamber 與 purge 配置，支援溫度控制與特殊樣品環境。 |
| 可換晶體板 | Crystal plates 為 pinned-in-place 設計，可在無需重新 alignment 的前提下快速更換。 |
| 晶體材質 | 支援 Diamond/ZnSe、Diamond/KRS-5、Ge、ZnSe、Si 等選項，可依樣品硬度、pH、波段與折射率需求選擇。 |
| 夾具系統 | 可搭配 high-pressure clamp、confined space clamp、micrometer clamp 與 digital force adapter。 |
| 延伸配置 | 可延伸 heated plate、Peltier、liquid jacketed plate、flow-through attachment、sealed chamber 與 specular reflection plate。 |
在 MIRacle 設計中，ATR crystal 同時作為聚焦與取樣介面，可在小面積 ATR 架構下維持良好能量通量。此設計有助於縮短資料收集時間、提升光譜穩定性，並兼顧日常量測與研究型配置需求。
可依樣品型態與操作空間選擇 high-pressure clamp、confined space clamp 與 micrometer clamp。若需要更精準且可重現的施力條件，亦可搭配 digital force adapter 進行 load cell 讀值。
Faux black pearl 光譜可用於說明 diamond ATR crystal 的量測特性。Diamond 具備良好耐用性與耐刮特性，適合硬質樣品與常規固體分析配置。
Hydrogel 圖譜比較了 3-reflection diamond/ZnSe 與 single reflection diamond/ZnSe。對液體、膏狀、膠體或低濃度液體成分，多重反射板可提高訊號強度，是方法擴充的重要選項。
黑色橡膠示例可用來說明 Ge crystal 在高折射率或碳黑填充樣品上的角色。Ge 折射率較高，可協助樣品維持全反射條件，避免 optical breakthrough 造成光譜扭曲。
| Diamond / ZnSe | 常見通用的單反射配置，適合硬樣與多數例行 ATR 分析，原廠標示 pH 適用範圍為 1-14；需注意 Diamond 在 2300-1900 cm-1 區間的本質晶格吸收。 |
| Diamond / KRS-5 | 當應用需要更寬廣的低波數 mid-IR 範圍時可考慮，例如延伸至 Diamond/ZnSe 無法覆蓋的特定指紋區；材料安全與使用限制需依原廠建議確認。 |
| Ge | 適合高折射率、碳黑橡膠與強吸收樣品。Ge 折射率較高且穿透深度較淺，可降低全反射破壞造成的光譜扭曲；高溫下會增加熱吸收，不建議搭配高溫加熱配置。 |
| ZnSe | 傳統通用型 ATR crystal，適合一般用途，但 pH 適用範圍較窄。 |
| Si | 適合 far-IR 量測需求，擴展 MIRacle 在特定光譜區段的應用能力。 |
| 3 / 9 Reflection Plates | 主要針對液體、膏狀、膠體與低濃度液體成分提升訊號強度，提供 flat 或 trough 形式。 |
晶體選擇需依樣品、pH、目標波段與溫控條件確認；規格與適用限制以原廠型錄為準。
| ATR 晶體選項 (ATR Crystal Choices) | Diamond/ZnSe、Diamond/KRS-5、Ge、ZnSe、Si |
| 晶體板安裝方式 (Crystal Plate Mounting) | User-changeable plates |
| 晶體板座材質 (Plate Housing) | Stainless steel 或 Hastelloy |
| 入射角 (Angle of Incidence) | 45 degrees, nominal |
| 晶體尺寸 (Crystal Dimensions) | 1.8 mm 單反射；6.0 mm 三反射與九反射 |
| 施力裝置 (Pressure Device) | Rotating, continuously variable pressure；高壓夾具有 click-stop 機構 |
| 最大施壓能力 (Maximum Pressure) | 10,000 psi |
| 樣品操作空間 (Sample Access) | 55 mm，ATR crystal 到 pressure mount |
| 鏡面反射選配 (Specular Reflection Option) | Optional, 45 degree nominal angle |
| 吹掃密封配置 (Purge Sealing) | 附 purge tubes 與 purge line connector |
| 加熱範圍 (Heating Options) | Ambient to 60 或 130 °C maximum |
| Peltier 溫控範圍 (Peltier Option) | Ambient to 10 或 90 °C maximum |
| 控制精度 (Accuracy) | 100 °C 以下 ±0.5°；100 °C 以上為 set point 的 ±0.5% |
| 感測器型式 (Sensor Type) | 3 wire Pt RTD（low drift, high stability） |
| 溫控系統 (Temperature Control) | Touch-panel display with USB interface，支援 PIKE TempPRO |
| 電源輸入 (Input) | 100–240 VAC，自動切換，external power supply |
| 電源輸出 (Output) | 1.3 A / 24 VDC，30 W maximum |
| 附件尺寸 (Accessory Dimensions) | 104 x 103 x 210 mm（不含 FTIR baseplate 與 mount） |
| FTIR 相容性 (FTIR Compatibility) | Most FTIR systems，訂購時需指定 instrument model / type |
| 溫控附件 | Heated plate、Peltier plate 與 liquid jacketed plate 可用於樣品溫度控制、黏度變化觀察或時間-溫度追蹤；溫控配置可搭配觸控控制器與 PIKE TempPRO 軟體。 |
| Digital Force Adapter | 提供 applied force 讀值，適合需要施力條件可重現的固體樣品分析、方法開發與跨人員操作標準化；不適用加熱 plate 配置。 |
| 流通與密封附件 | Flow-through attachment、liquids retainer / volatiles cover 與 sealed sample chamber 可將 MIRacle 延伸到液體導入、揮發物或敏感樣品環境控制分析。 |
PIKE MIRacle ATR 可用於固體、液體、高分子、膏狀與膠體樣品。實際配置需依樣品硬度、pH、折射率、目標波段與溫控或流通需求確認。
Diamond/ZnSe 常作為通用單反射配置；Ge 適合高折射率或碳黑填充樣品；ZnSe 適合一般用途但 pH 範圍較受限；Si 適合 far-IR 或特定低波數需求。
3 或 9 reflection plates 主要用於液體、膏狀、膠體或低濃度液體成分，以增加有效反射次數並提升訊號強度；常規固體或硬質聚合物通常仍以單反射配置確認接觸穩定性。
配置 MIRacle ATR 時，需確認 FTIR 主機品牌型號、樣品型態、pH 或腐蝕性、是否需要溫控、流通、密封或施力重現性，以及目標量測波段。
