痕量多元素定量
利用質荷比辨識與定量多種元素，處理環境、生醫、材料與品質控制中的痕量元素分析。
NexION ICP-MS 系列
感應耦合電漿質譜儀系列，例行痕量分析、複雜基質干擾處理及超痕量多重四極桿分析。
電漿採用系統
採用 34 MHz 自由振盪 RF 產生器與氣冷式 LumiCoil，快速因應樣品基質變化。
Universal Cell 干擾控制
以碰撞或反應氣體處理多原子離子干擾。
方法建立、儀器控制與結果管理
Syngistix for ICP-MS 提供啟動與最佳化、方法設定、批次分析、品質控制監控及結果處理，形成 NexION 系列共通的分析工作流程。
Syngistix for ICP-MS Enhanced Security 針對受規範實驗室的電子紀錄、稽核軌跡與安全管理需求。
選配應用模組
Nano Application Module 單顆粒分析。
Single Cell Application Module 單細胞分析。
Automated Method Validation Module 自動化方法驗證工作流程。
NexION 1100
例行痕量分析 ICP-MS
- Q0、Q1、Q2 三重四極桿與單一質量分析器
- 單一氣體通道，可升級為多通道配置
- 10¹⁴ 擴展動態範圍
NexION 2200
複雜基質與干擾處理 ICP-MS
- 三個氣體通道支援即時混合碰撞與反應氣體
- 第二代 Triple Cone Interface 搭配 OmniRing
- Q1 Universal Cell 與全尺寸 Q2 質量分析器
NexION 5000
多重四極桿 ICP-MS
- Q0、Q1、Q2、Q3 四重四極桿架構
- Q1／Q3 雙質量篩選搭配 Q2 Universal Cell
- 提供一般實驗室與無塵室配置